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ADLC

无定形金刚石硬质合金材料含有大量的 SP3 而且具有所需的金刚石和石墨的优良性能。 批次一个批次指能在同一炉，同一时间进行涂层的零件组阴极阴极是一个 PVD 语术，通常指阴极源或靶材，更严格地说指阴极，是靶材安装的极板，并在涂层工序中发生气化。

CVA

铝化化学气相沉积过程扩散铝合金到部件表面，提高抗高温能力，防腐和抗氧化性能。

CVD

化学气相沉积过程是由反应气体通过化学反应进行涂层沉积，在标准的 CVD 情况下，该反应在 800 — 1050 ℃的高温下进行。工艺时间涂层时间是一个完整的过程，从一批次装载到涂层、冷却和卸载。

微米

微米是百万分之一米

PACVD

离子活化 CVD 或离子加强 CVD ，这是 CVD 的低温（低于 200 ℃）的加工过程，在 PACVD 情况下，通过 RF 电源进行气体反应。

PECVD

离子加强 CVD

PVD

物理气相沉积是在涂层设备炉膛，通过靶材的气化沉积涂层的物理过程。 源源是 PVD 语术，它是一种装置，用来装夹靶材，同时包括触发器，磁体，壳体和冷却系统，源有时指阴极。

sp2

硬质合金原子类似于石墨

sp3

硬质合金原子类似于天然金刚石

基体

涂层是的基体材料

靶材

target 是 PVD 语术，指被气化的金属材料，靶材与源一起通常范指阴极或源。